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相変化材料を用いた高空間分解能イメージング技術」記事へのコメント

  • 面分布したナノ構造を造らなきゃならないってのは今までの製造技術じゃ無理だねー
    自己組織化学反応でも見つけなきゃ。

    --
    the.ACount
    • by Anonymous Coward on 2014年07月26日 17時36分 (#2646244)

      面分布したナノ構造を造らなきゃならないってのは今までの製造技術じゃ無理

      じゃ半導体製造業者がシリコンウェハー上でやっていることはいったい何?

      親コメント
      • by the.ACount (31144) on 2014年07月27日 13時19分 (#2646573)

        ミクロンサイズで四苦八苦してるのが何だって?
        紫外露光フォトレジストがX線になったら同じ技術でナノに出来るかもね。
        X線でどうやってやれるんか知らんけど。

        --
        the.ACount
        親コメント
        • by Anonymous Coward

          とっくにナノメータオーダーの世界だよ。
          インテルが語る14nmと10nmの展望 [ascii.jp]

        • by Anonymous Coward

          ミクロンサイズで四苦八苦してるのが何だって?

          なんでこう自信たっぷりに口からでまかせを吐けるんだろう。
          知らないことは黙っていればいいのに。

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