Spin qubits are much smaller and can potentially be implemented in CMOS and Intel has invented a spin qubit fabrication flow on “300mm process technology.” This is oddly phrased, but seems to indicate Intel is building these chips on its 300mm wafers as opposed to some new process node.
300mmプロセス!? (スコア:0)
ITメディアの記事に「シリコンで作製できれば(中略)既に300mmプロセスでの製造フローを発明している」とあって、線幅30cm!?と驚いたんだが。
マイナビだと「300mmウェハによる製造プロセスでの製造フローを開発済み」とあるので、誤記なのかな。
それにしても、両記事は細かいところで違いますね。
一方は「発明」で一方は「開発」だったり。
Re: (スコア:0)
本家slashdotのリンクの最後の文章 [extremetech.com]
Re: (スコア:0)
半導体製造プロセスにおいて、前者に注目して「14nmプロセス」等とい言い方をすることがありますが、後者に注目して「300mmプロセス」という言い方も珍しくありません。
まさしく、「300mmウェーハによる製造プロセス」のことを「300mmプロセス」と呼ぶのです。
エンドユーザとしては、プロセスルールを気にする人はいるかもしれませんが、ウェーハの口径なんてまず気にする必要はありませんから、「300mmプロセス」という表現は、コンシューマ向けの文書などでは見かけないのでしょう。
Re: (スコア:0)
現役の半導体屋だけど、ウェーハサイズを指して「300mmプロセス」なんて呼び方は聞いた事無いな。
むしろ製造ラインを「300mmライン」って呼ぶのが一般的かと、装置が変わるから。
#兼用ラインは200mm/300mmラインとかだったかな。
設計なんで工場ではそういう呼び方してるのかな?
それともリソ以外の装置メーカーかな?
Re: (スコア:0)