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そもそものダスト粒子の発生源を突き止めた方が良いのでは?# 今はなき日本の半導体メーカーに勤めていた人から、半導体製造プロセスで意外と問題になるのが人体から発せられる微量のアンモニアガスと聞いたことがあります# そんなんどうしろと…
AI「発生源を排除します」
昔の半導体工場 部屋全体を超クリーンにする今の半導体工場 部屋全体はそこそこのクリーンさで、機器内部・搬送路内部・搬送容器内部を超クリーンにする
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私はプログラマです。1040 formに私の職業としてそう書いています -- Ken Thompson
ところで (スコア:1)
そもそものダスト粒子の発生源を突き止めた方が良いのでは?
# 今はなき日本の半導体メーカーに勤めていた人から、半導体製造プロセスで意外と問題になるのが人体から発せられる微量のアンモニアガスと聞いたことがあります
# そんなんどうしろと…
Re: (スコア:0)
AI「発生源を排除します」
Re:ところで (スコア:3, 参考になる)
始めて300mmのFabに入った時は人間の少なさに驚きました。
なので、発生源を排除するというのは正しいです。
また200mmの時はオープンカセットが主流でしたが、300mmではFOUPという密閉容器でウェーハを搬送します。場合によっては不活性ガスを封入することもあります。
装置への搬入時など、FOUPから取り出されたウェーハが移動する空間は、ミニエンと呼ばれ陽圧に管理されています。陽圧を確保するために、外部から取り入れる空気を取り入れますが、そのフィルタにはアンモニアを吸着するケミカルフィルタが重ねられることもあります。
マジレスすると、そんな感じで対策してます。
Re: (スコア:0)
昔の半導体工場 部屋全体を超クリーンにする
今の半導体工場 部屋全体はそこそこのクリーンさで、機器内部・搬送路内部・搬送容器内部を超クリーンにする