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キヤノン、14nmのパターンを形成できる半導体製造装置を発売」記事へのコメント

  • コーターデベロッパ装置も要らなくなるってこと?
    これが主流になったらTELやSCREENは涙目だな

    • by Anonymous Coward on 2023年10月20日 12時25分 (#4549315)

      コレも露光は依然必要っしょ?
      光学系ってのが何を指して言ってるのか知らんけど

      親コメント
      • 従来のLSI製造方法は、ざっくり言えば「ウェハー上に形成したい物質をべったりと塗る」→「その上の感光性のレジスト素材をべったり塗る」→「マスクを通して露光すると、レジストがマスクの形に残る」→「エッチングすると、レジストがあるとこは削れないから、マスクの形に形成したい物質が残る」
        って原理なのに対して、今回のNILは
        「ウェハー上に形成したい物質をべったりと塗る」→「直接パターンの形に表面にレジストを印刷」→「UV照射でレジストを固める」→「エッチングすると、レジストがあるとこは削れないから、マスクの形に形成したい物質が残る」
        って流れですね。

        「UV照射でレジストを固める」のは、処理としては「露光」ですけど、
        元コメの言う「露光機」(マスクを通してパターン通りにUV照射する機械)は不要でしょ。

        親コメント

一つのことを行い、またそれをうまくやるプログラムを書け -- Malcolm Douglas McIlroy

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