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コーターデベロッパ装置も要らなくなるってこと?これが主流になったらTELやSCREENは涙目だな
コレも露光は依然必要っしょ?光学系ってのが何を指して言ってるのか知らんけど
従来のLSI製造方法は、ざっくり言えば「ウェハー上に形成したい物質をべったりと塗る」→「その上の感光性のレジスト素材をべったり塗る」→「マスクを通して露光すると、レジストがマスクの形に残る」→「エッチングすると、レジストがあるとこは削れないから、マスクの形に形成したい物質が残る」って原理なのに対して、今回のNILは「ウェハー上に形成したい物質をべったりと塗る」→「直接パターンの形に表面にレジストを印刷」→「UV照射でレジストを固める」→「エッチングすると、レジストがあるとこは削れないから、マスクの形に形成したい物質が残る」って流れですね。
「UV照射でレジストを固める」のは、処理としては「露光」ですけど、元コメの言う「露光機」(マスクを通してパターン通りにUV照射する機械)は不要でしょ。
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露光機とセットのコーデベ (スコア:1)
コーターデベロッパ装置も要らなくなるってこと?
これが主流になったらTELやSCREENは涙目だな
Re: (スコア:0)
コレも露光は依然必要っしょ?
光学系ってのが何を指して言ってるのか知らんけど
Re:露光機とセットのコーデベ (スコア:1)
従来のLSI製造方法は、ざっくり言えば「ウェハー上に形成したい物質をべったりと塗る」→「その上の感光性のレジスト素材をべったり塗る」→「マスクを通して露光すると、レジストがマスクの形に残る」→「エッチングすると、レジストがあるとこは削れないから、マスクの形に形成したい物質が残る」
って原理なのに対して、今回のNILは
「ウェハー上に形成したい物質をべったりと塗る」→「直接パターンの形に表面にレジストを印刷」→「UV照射でレジストを固める」→「エッチングすると、レジストがあるとこは削れないから、マスクの形に形成したい物質が残る」
って流れですね。
「UV照射でレジストを固める」のは、処理としては「露光」ですけど、
元コメの言う「露光機」(マスクを通してパターン通りにUV照射する機械)は不要でしょ。