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ナノインプリントはパーティクルや離型不良による欠陥率の高さが課題って聞いたけど、どこまで改善されたんだろうね。
欠陥率が高いから冗長性のあるNANDメモリ向き(不良セルがあってもコントローラで無効化すればよい)ってことだったけど、ロジック向けを謳ってるからにはかなり改善したのかな。
装置だけじゃなくて、EDAツールもナノインプリントプロセス向けにカスタマイズとか要るんじゃないかなあ。
何にせよ夢があって良いので今後に期待。
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アレゲは一日にしてならず -- アレゲ研究家
欠陥率とEDAツールの対応が肝? (スコア:0)
ナノインプリントはパーティクルや離型不良による欠陥率の高さが課題って聞いたけど、どこまで改善されたんだろうね。
欠陥率が高いから冗長性のあるNANDメモリ向き(不良セルがあってもコントローラで無効化すればよい)ってことだったけど、ロジック向けを謳ってるからにはかなり改善したのかな。
装置だけじゃなくて、EDAツールもナノインプリントプロセス向けにカスタマイズとか要るんじゃないかなあ。
何にせよ夢があって良いので今後に期待。
Re:欠陥率とEDAツールの対応が肝? (スコア:1)