パスワードを忘れた? アカウント作成
この議論は賞味期限が切れたので、アーカイブ化されています。 新たにコメントを付けることはできません。

キヤノン、14nmのパターンを形成できる半導体製造装置を発売」記事へのコメント

  • ナノインプリントはパーティクルや離型不良による欠陥率の高さが課題って聞いたけど、どこまで改善されたんだろうね。

    欠陥率が高いから冗長性のあるNANDメモリ向き(不良セルがあってもコントローラで無効化すればよい)ってことだったけど、ロジック向けを謳ってるからにはかなり改善したのかな。

    装置だけじゃなくて、EDAツールもナノインプリントプロセス向けにカスタマイズとか要るんじゃないかなあ。

    何にせよ夢があって良いので今後に期待。

アレゲは一日にしてならず -- アレゲ研究家

処理中...