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酸化膜についてはガラス自体がSiO2ですから, 周りが全て酸化膜ということになりますね.
このアイデアの発想の転換は純シリコンに酸化膜を形成するのではなく, 元が酸化シリコンのガラスの中に還元によってシリコン素子を形成し, これに対する信号および駆動エネルギを光で供給するところに有ると思います.
透明なガラスの中にフェムト秒レーザで回路を構築するのなら, エッチングと化学的な拡散によって回路を構築する既存のプロセスと比較して, 比較的容易に数1000層の回路
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「毎々お世話になっております。仕様書を頂きたく。」「拝承」 -- ある会社の日常
既存のLSIと比べて、 (スコア:1)
ガラスの中の3次元空間の中に、P型/N型も作れたとありますけど、
やはり酸化膜も作れないとMOS-FETができないでしょうし、0.18ミクロンみたいな
配線密度はこの方法でできるのでしょうか? (専門の方のコメント希望)
密度を上げるのに時間はかか
Re:既存のLSIと比べて、 (スコア:2, 興味深い)
酸化膜についてはガラス自体がSiO2ですから, 周りが全て酸化膜ということになりますね.
このアイデアの発想の転換は純シリコンに酸化膜を形成するのではなく, 元が酸化シリコンのガラスの中に還元によってシリコン素子を形成し, これに対する信号および駆動エネルギを光で供給するところに有ると思います.
透明なガラスの中にフェムト秒レーザで回路を構築するのなら, エッチングと化学的な拡散によって回路を構築する既存のプロセスと比較して, 比較的容易に数1000層の回路
Re:既存のLSIと比べて、 (スコア:1)
>比較的容易に数1000層の回路が出来そう
3次元的にコントロールするためには
やっぱり「焦点距離」みたいなものを使うんでしょうか?
>外部とのインターフェイスは基本的にチップ(キューブ?)の表面にしか有りません
光って使えないんでしょうか?
これを作る工具(^^;;;と同じ原理で、3次元的に狙った場所に光を
「あてる」ことは出来るでしょうから、それを入力手段に使うとか?
あるいはチップ内のある個所から外めがけて光を発射させて出力とするとか?