Re:High-k金属ゲート
投稿者：gf1e (2007年02月15日 21時31分)、コメント先：Intelが45nmプロセスのCPUを試作、high-kゲート絶縁膜を採用
投稿者：gf1e (2007年02月15日 21時31分)、コメント先：Intelが45nmプロセスのCPUを試作、high-kゲート絶縁膜を採用
投稿者：shoji12 (2007年01月31日 16時21分)、コメント先：Intelが45nmプロセスのCPUを試作、high-kゲート絶縁膜を採用
投稿者：glasstic (2007年01月30日 22時43分)、コメント先：Intelが45nmプロセスのCPUを試作、high-kゲート絶縁膜を採用
投稿者：phason (2007年01月30日 15時43分)、コメント先：Intelが45nmプロセスのCPUを試作、high-kゲート絶縁膜を採用
投稿者：phason (2007年01月30日 15時31分)、コメント先：Intelが45nmプロセスのCPUを試作、high-kゲート絶縁膜を採用
投稿者：Anonymous Coward (2007年01月30日 12時08分)、コメント先：Intelが45nmプロセスのCPUを試作、high-kゲート絶縁膜を採用
投稿者：the.ACount (2007年01月30日 10時49分)、コメント先：Intelが45nmプロセスのCPUを試作、high-kゲート絶縁膜を採用
投稿者：meiryo (2007年01月30日 10時01分)、コメント先：Intelが45nmプロセスのCPUを試作、high-kゲート絶縁膜を採用
投稿者：yosuke2 (2007年01月30日 0時24分)、コメント先：Intelが45nmプロセスのCPUを試作、high-kゲート絶縁膜を採用
投稿者：phason (2007年01月29日 22時45分)、コメント先：Intelが45nmプロセスのCPUを試作、high-kゲート絶縁膜を採用
弘法筆を選ばず、アレゲはキーボードを選ぶ -- アレゲ研究家