キヤノン、14nmのパターンを形成できる半導体製造装置を発売 45
タンポ印刷に回帰 部門より
従来の露光技術では、ウエハー上に塗布されたレジスト(樹脂)に光を照射し回路を焼き付けるが、新製品では、マスクをウエハー上のレジスト(樹脂)に印鑑のように直接押し付け、マスクに刻まれた回路パターンを正確に転写する方式を採用した。従来の方法と異なり、光学系の介在物がないため、微細な回路パターンを正確に再現できる。具体的には、最先端ロジック半導体製造レベルの5ナノノードに相当する最小線幅14nmのパターン形成ができるという。