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プロセス技術はまったく素人なのでとんちんかんな質問ならごめんなさい。
既存のプロセス技術とどう融合できて、どれくらい集積できるのでしょうか？既存のLSI上のトランジスタをそのまま置き換えられるようなものなのでしょうか？
カーボンナノチューブ使ったトランジスタみたいに、どうやって揃ったトランジスタを多数作るのか疑問に思うほど革新的（？）なデバイス構造では無い普通にフォトマスクを使って平らなウェハー上にトランジスタを作ってるのだから、まあ筋（量産性）は良い技術縦型構造のトランジスタ形成や非常に狭い空間の埋込技術はすでに実用化されたものや開発途上の技術があるので、量産するのにもの凄く苦労しそうというような印象は受けない
実用化への壁・P型を作る必要がある・ゲート電圧がマイナスじゃないとTrがOFFにならない（いわゆるデプレッション型）
トンネル効果を利用したTrを実際に作ってその特性が良好であると証明できたことは良かった。
ということで、次の発表に期待だ！＃できればInを削減の方向で
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犯人は巨人ファンでA型で眼鏡をかけている -- あるハッカー
どれくらい集積できるのか (スコア:1)
プロセス技術はまったく素人なのでとんちんかんな質問ならごめんなさい。
既存のプロセス技術とどう融合できて、どれくらい集積できるのでしょうか？
既存のLSI上のトランジスタをそのまま置き換えられるようなものなのでしょうか？
Re: (スコア:1)
カーボンナノチューブ使ったトランジスタみたいに、どうやって揃ったトランジスタを多数作るのか疑問に思うほど革新的（？）なデバイス構造では無い
普通にフォトマスクを使って平らなウェハー上にトランジスタを作ってるのだから、まあ筋（量産性）は良い技術
縦型構造のトランジスタ形成や非常に狭い空間の埋込技術はすでに実用化されたものや開発途上の技術があるので、量産するのにもの凄く苦労しそうというような印象は受けない
Re:どれくらい集積できるのか (スコア:2, 参考になる)
実用化への壁
・P型を作る必要がある
・ゲート電圧がマイナスじゃないとTrがOFFにならない（いわゆるデプレッション型）
トンネル効果を利用したTrを実際に作ってその特性が良好であると証明できたことは良かった。
ということで、次の発表に期待だ！
＃できればInを削減の方向で